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内容简介
前言
第1章 绪论
1.1 引言
1.2 辐射环境
1.3 单粒子效应
1.4 总剂量效应
1.5 本章小结
参考文献
第2章 基本物理模型和仿真工具
2.1 Sentaurus TCAD仿真软件介绍
2.2 Silvaco TCAD仿真软件介绍
2.3 基本物理模型
2.4 物理模型参数设置实例
2.5 本章小结
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参考文献
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第3章 高能粒子入射材料的损伤机理
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3.1 LET的简化计算
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3.2 重离子在任意材料中的径向剂量
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3.3 材料吸收剂量的计算
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3.4 本章小结
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参考文献
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第4章 纳米CMOS器件的总剂量效应及加固技术
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4.1 FD-SOI器件结构
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4.2 FD-SOI器件氧化层的电荷俘获
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4.3 FD-SOI器件的总剂量效应
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4.4 FD-SOI器件总剂量效应的影响因素
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4.5 FD-SOI器件总剂量效应加固技术
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4.6 纳米线晶体管总剂量效应及加固技术
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参考文献
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第5章 SiC功率VDMOSFET的单粒子效应及加固技术
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5.1 失效机理
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5.2 VDMOSFET结构与特性
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5.3 4H-SiC和6H-SiC VDMOSFET的单粒子效应
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5.4 晶圆各向异性对4H-SiC VDMOSFET的单粒子效应的影响
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5.5 4H-SiC半超结VDMOSFET的单粒子效应
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5.6 4H-SiC半超结VDMOSFET的单粒子效应加固技术
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5.7 本章小结
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参考文献
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第6章 纳米CMOS器件的单粒子效应及加固技术
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6.1 纳米CMOS器件的单粒子效应
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6.2 数据读出接口电路的单粒子效应及加固方法
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6.3 纳米FinFET的单粒子效应及加固技术
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6.4 本章小结
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参考文献
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第7章 单粒子效应对纳米CMOS电路的影响
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7.1 单粒子串扰建模分析
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7.2 单粒子瞬态的传播特性分析
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7.3 密勒效应和耦合效应对单粒子瞬态的影响
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7.4 本章小结
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参考文献
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第8章 纳米CMOS电路在单粒子效应下的可靠性评估
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8.1 逻辑电路在单粒子翻转下的可靠性评估
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8.2 数字电路在单粒子瞬态下的可靠性评估
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8.3 基于蒙特卡罗的电路可靠性评估
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8.4 本章小结
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参考文献
更新时间:2021-04-30 21:43:49